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公司提供Mask Design Rule Check服務(wù)，客戶可通過MRC對數(shù)據(jù)進(jìn)行規(guī)則檢查，MRC與芯片設(shè)計公司所使用DRC類似，可針對細(xì)微區(qū)域偵測異常設(shè) 計，防止流片過程中異常情形的發(fā)生；此外，公司還可提供Format Transferring, Floor Plan, Bias, Mirror, Scaling, Reticle Alignment Mark, Barcode等數(shù)據(jù)處理服務(wù)。

公司提供Job Deck View服務(wù)，客戶可通過在線JDV方式對設(shè)計文件進(jìn)行最終確認(rèn)，公司可以支持的文件格式包括MEBES、GDSII、OASIS、DXF、DWG、CIF、TDB、DPF等。

公司提供光罩清洗服務(wù)（Mask Cleaning Services），客戶可以通過光罩清洗服務(wù)清洗光罩表面的顆粒，并重新對產(chǎn)品進(jìn)行重新檢測和測量，以確認(rèn)產(chǎn)品是否可繼續(xù)使用。

公司提供重貼膜服務(wù)（Pellicle Remount Services），客戶可通過重貼膜服務(wù)，將劃傷、破損、撕裂、沾污的光學(xué)膜去除，經(jīng)過清洗、檢測后再重新貼膜。