石英掩模版（Quartz Mask）以高純石英玻璃為基材，石英玻璃具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)成本較高，通常應(yīng)用于高精度掩模版產(chǎn)品。石英掩模版主要在半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域內(nèi)使用，包括模擬IC、各種分立器件、MEMS以及平板顯示等。
公司可提供多種尺寸和規(guī)格的光罩產(chǎn)品，制作精度覆蓋130nm、180nm、250nm、350nm、500nm及以上芯片工藝節(jié)點(diǎn)，具體如下表所示：
